@misc{Gryglewicz_Jacek_Influence_2013,
 author={Gryglewicz, Jacek and Stafiniak, Andrzej and Wośko, Mateusz and Prażmowska, Joanna and Paszkiewicz, Bogdan},
 contributor={Urbańczyk, Wacław. Redakcja},
 identifier={DOI: 10.5277/oa130103},
 year={2013},
 rights={Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)},
 description={Optica Applicata, Vol. 43, 2013, nr 1, s. 27-33},
 publisher={Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej},
 language={eng},
 title={Influence of high Al fraction on reactive ion etching of AlGaN/GaN heterostructures},
 type={artykuł},
 keywords={optyka, reactive ione etching, HEMT, AlGaN/GaN heterostructure},
}