Tytuł:

Rysunek odręczny w procesie kształcenia architektów wnętrz

Tytuł publikacji grupowej:

Architectus

Tytuł odmienny:

Freehand drawing in the interior design teaching process

Autor:

Kucharczyk-Brus, Beata ; Zabawa-Krzypkowska, Joanna

Współtwórca:

Łużyniecka, Ewa. Redakcja

Temat i słowa kluczowe:

architektura ; czasopisma ; rysunek odręczny ; rysunek architektoniczny ; program nauczania

Opis:

Architectus : Pismo Wydziału Architektury Politechniki Wrocławskiej, 2018, nr 2 (54), s. 25-32

Abstrakt:

W artykule poruszono zagadnienia związane z procesem kształcenia w zakresie rysunku odręcznego na kierunku architektura wnętrz na Wydziale Architektury Politechniki Śląskiej. Przedstawiono program kształcenia w przeciągu całego cyklu studiów. Zawarto refleksje dotyczące zarówno konieczności przygotowania studentów w tym zakresie, jak i przełożenia treści zapisanych w programie na warsztat zawodowy przyszłych architektów. Głównym celem pracy jest określenie, w jaki sposób proces nauczania rysunku odręcznego rozwija umiejętności plastyczne – narzędzie umożliwiające przedstawienie własnej koncepcji projektowej przyszłym inwestorom. W jego realizacji wykorzystano obserwację uczestniczącą, analizę prac studenckich, analizę prac realizacyjnych. Omówione badania doprowadziły do konkluzji o istnieniu konieczności zintensyfikowania zadań z rysunku architektonicznego.

Wydawca:

Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej

Miejsce wydania:

Wrocław

Data wydania:

2018

Typ zasobu:

artykuł

Identyfikator zasobu:

doi:10.5277/arc180203

Źródło:

<sygn. PWr A5234III> ; kliknij tutaj, żeby przejść ; www.architectus.arch.pwr.wroc.pl ; kliknij tutaj, żeby przejść

Język:

eng ; pol

Powiązania:

Architectus : Pismo Wydziału Architektury Politechniki Wrocławskiej ; Architectus : Pismo Wydziału Architektury Politechniki Wrocławskiej, 2018 ; Architectus : Pismo Wydziału Architektury Politechniki Wrocławskiej, 2018, nr 2 (54)

Prawa:

Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)

Prawa dostępu:

Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku

Lokalizacja oryginału:

Politechnika Wrocławska