Tytuł:

Measurement of stress as a function of temperature in Ag and Cu thin films

Tytuł publikacji grupowej:

Optica Applicata

Autor:

Proszyński, Adam ; Chocyk, Dariusz ; Gładyszewski, Grzegorz ; Pieńkos, Tomasz ; Gładyszewski, Longin

Współtwórca:

Gaj, Miron. Redakcja ; Wilk, Ireneusz. Redakcja

Temat i słowa kluczowe:

optyka ; annealing ; stress measurements ; thin films

Opis:

Optica Applicata, Vol. 35, 2005, nr 3, s. 517-522

Abstrakt:

Stress measurements of 23 nm copper films and 93 nm silver films on Si (100) have been performed during thermal cycling between RT and 450°C. The changes in stress versus temperature are interpreted. The effects of treatment on microstructure and composition are studied by X-ray diffraction.

Wydawca:

Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej

Miejsce wydania:

Wrocław

Data wydania:

2005

Typ zasobu:

artykuł

Źródło:

<sygn. PWr A3481II> ; kliknij tutaj, żeby przejść ; kliknij tutaj, żeby przejść

Język:

eng

Powiązania:

Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 35, 2005 ; Optica Applicata, Vol. 35, 2005, nr 3 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki

Prawa:

Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)

Prawa dostępu:

Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku

Lokalizacja oryginału:

Politechnika Wrocławska