Title:

Quality criterion for numerical methods in EDFA modelling

Group publication title:

Optica Applicata

Creator:

Tiesler, Maciej M. ; Witkowski, Jerzy S. ; Abramski, Krzysztof M.

Contributor:

Gaj, Miron. Redakcja ; Wilk, Ireneusz. Redakcja

Subject and Keywords:

optyka

Description:

Optica Applicata, Vol. 32, 2002, nr 1-2, s. 187-196

Publisher:

Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej

Place of publication:

Wrocław

Date:

2002

Resource Type:

artykuł

Format:

application/pdf

Source:

<sygn. PWr A3481II> ; click here to follow the link ; click here to follow the link

Language:

eng

Relation:

Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 32, 2002 ; Optica Applicata, Vol. 32, 2002, nr 1-2 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki

Rights:

Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)

Access Rights:

Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku

Location:

Politechnika Wrocławska