Tytuł:

Quality criterion for numerical methods in EDFA modelling

Tytuł publikacji grupowej:

Optica Applicata

Autor:

Tiesler, Maciej M. ; Witkowski, Jerzy S. ; Abramski, Krzysztof M.

Współtwórca:

Gaj, Miron. Redakcja ; Wilk, Ireneusz. Redakcja

Temat i słowa kluczowe:

optyka

Opis:

Optica Applicata, Vol. 32, 2002, nr 1-2, s. 187-196

Wydawca:

Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej

Miejsce wydania:

Wrocław

Data wydania:

2002

Typ zasobu:

artykuł

Format:

application/pdf

Źródło:

<sygn. PWr A3481II> ; kliknij tutaj, żeby przejść ; kliknij tutaj, żeby przejść

Język:

eng

Powiązania:

Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 32, 2002 ; Optica Applicata, Vol. 32, 2002, nr 1-2 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki

Prawa:

Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)

Prawa dostępu:

Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku

Lokalizacja oryginału:

Politechnika Wrocławska