X-ray, AFM, UV–VIS–IR analysis of a-Si:H/μc-Si:H supperlattice structure
Group publication title: Creator:Kołodziej, Andrzej ; Baranowski, Witold ; Kusior, Edward ; Kanak, Jarosław
Contributor:Gaj, Miron. Redakcja ; Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Subject and Keywords:optyka ; X-ray ; atomic force microscopy (AFM) ; UV–VIS–IR analysis ; nc-Si:H multilayer structure
Description:Optica Applicata, Vol. 41, 2011, Nr 2, s. 449-454
Publisher:Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
Place of publication: Date: Resource Type: Format: Source:<sygn. PWr A3481II> ; click here to follow the link ; click here to follow the link
Language: Relation:Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 41, 2011 ; Optica Applicata, Vol. 41, 2011, Nr 2 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Rights:Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Access Rights:Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
Location: