Zubel, Irena ; Kramkowska, Małgorzata ; Ninierza, Tomasz
Gaj, Miron. Redakcja ; Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Optica Applicata, Vol. 39, 2009, nr 4, s. 749-759
Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
<sygn. PWr A3481II> ; kliknij tutaj, żeby przejść ; kliknij tutaj, żeby przejść
Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 39, 2009 ; Optica Applicata, Vol. 39, 2009, nr 4 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
12 mar 2019
12 mar 2019
60
https://dlibra.kdm.wcss.pl/publication/110838
| Nazwa wydania | Data |
|---|---|
| Methods of silicon surface structurization for the purpose of the deposition of III-V epitaxial layers | 12 mar 2019 |
Zubel, Irena Rola, Krzysztof Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Goldys, E.M. Drozdowicz-Tomsia, K. Zhu, G. Yu, H. Jinjun, S. Motlan, M. Godlewski, M. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Stefaniak, Tadeusz Gaj, Miron. Redakcja
Dubik, Bogusława Gaj, Miron. Redakcja
Stadnik, Bohumil Gaj, Miron. Redakcja
Borkowska, Alina Wołczak, Bohdan Gaj, Miron. Redakcja