Rysiakiewicz-Pasek, Ewa ; Jaguś, Paweł
Gaj, Miron. Redakcja ; Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Optica Applicata, Vol. 38, 2008, nr 1, s. 101-107
Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
<sygn. PWr A3481II> ; click here to follow the link ; click here to follow the link
Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 38, 2008 ; Optica Applicata, Vol. 38, 2008, nr 1 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
Mar 21, 2019
Mar 21, 2019
52
https://dlibra.kdm.wcss.pl/publication/113919
Edition name | Date |
---|---|
The influence of preparation technology on phase transitions in NaNO2 embedded into porous glass | Mar 21, 2019 |
Rysiakiewicz-Pasek, Ewa Poprawski, Ryszard Urbanowicz, Adam Mączka, Mirosław Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Tarnavich, Vladislav Korotkov, Leonid Karaeva, Olja Naberezhnov, Alexander Rysiakiewicz-Pasek, Ewa Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Doycho, Igor K. Gevelyuk, Sergiy A. Lepikh, Jaroslav I. Rysiakiewicz-Pasek, Ewa Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Rysiakiewicz-Pasek, Ewa Gevelyuk, Sergey A. Doycho, Igor K. Prokopovich, Ludwig P. Safronsky, Eugeny D. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Tyurin, Olexandr V. Bercov, Yury M. Zhukov, Sergiy O. Levitskaya, Tetiana F. Gevelyuk, Sergiy A. Doycho, Igor K. Rysiakiewicz-Pasek, Ewa Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Rysiakiewicz-Pasek, Ewa Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Rysiakiewicz-Pasek, Ewa Gaj, Kazimierz. Redakcja
Rysiakiewicz-Pasek, Ewa Marczuk, K. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja