Optica Applicata, Vol. 49, 2019, nr 1, s. 13-26
Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
doi:10.5277/oa190102 ; oai:dbc.wroc.pl:109406
<sygn. PWr A3481II> ; kliknij tutaj, żeby przejść ; kliknij tutaj, żeby przejść
Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 49, 2019 ; Optica Applicata, Vol. 49, 2019, nr 1 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
8 kwi 2021
8 kwi 2021
42
https://dlibra.kdm.wcss.pl/publication/151338
Tsoi, P. Gololobov, N. Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Siwulski, Stanisław Nocuń, Marek Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Kruk, Andrzej Wajler, Anna Mrózek, Waldemar Zych, Łukasz Gawlik, Wojciech Brylewski, Tomasz Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Pisarska, Joanna Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Bao, Ying Lan, Jingheng Miao, Yu Zhang, Dawei Gao, Xiumin Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Sieradzka, Karolina Wojcieszak, Damian Kaczmarek, Danuta Domaradzki, Jarosław Kiriakidis, George Aperathitis, Elias Kambilafka, Vicky Placido, Frank Song, Shigeng Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Borkowska, Agnieszka Domaradzki, Jarosław Kaczmarek, Danuta Gaj, Miron. Redakcja
Rudno-Rudziński, Wojciech Ryczko, Krzysztof Sęk, Grzegorz Syperek, Marcin Misiewicz, Jan Pavelescu, Emil-Mihai Gilfert, Christian Reithmaier, Johann Peter Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja