Xu, Xiaoqing ; Wang, Yawei ; Xu, Yuanyuan ; Jin, Weifeng
Optica Applicata, Vol. 46, 2016, nr 4, s. 597-605
Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
<sygn. PWr A3481II> ; click here to follow the link ; click here to follow the link
Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 46, 2016, nr 4 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
Jan 16, 2019
Oct 24, 2017
40
40
https://dlibra.kdm.wcss.pl/publication/41814
Wang, Yawei Zhang, Li Ji, Ying Xu, Yuanyuan Bu, Min Chen, Yingzhou Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Kempczyński, Adam Bosek, Maciej Grzegorzewski, Bronisław Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Wang, Yawei Chen, Yujiao Lü, Cuihong Shang, Xuefu Xu, Yuanyuan Wu, Hui Zhu, Xinglong Jin, Weifeng Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Deng, Shaogeng Liu, Liren Lang, Haitao Zhao, Dong Liu, Ximin Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Wang, Mingqing Wang, Kai Zheng, Ming Li, Fang Wu, J. Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Luan, Guangyu Shan, Mingguang Zhong, Zhi Xia, Bai Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Zuo, Chao Chen, Qian Gu, Guohua Ren, Jianle Sui, Xiubao Zhang, Yuzhen Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Hu, Yeu-Jent Sheu, Jin-Yi Lee, Jiunn-Chyi Wu, Ya-Fen