Kityk, Ivan V. ; Sahraoui, Bouchta ; Rivoire, G. ; Salle, M. ; Kasperczyk, J. ; Czerwiński, M.
Wilk, Ireneusz. Redakcja ; Gaj, Miron. Redakcja
Optica Applicata, Vol. 26, 1996, nr 4, s. 333-340
Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
<sygn. PWr A3481II> ; click here to follow the link ; click here to follow the link
Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 26, 1996 ; Optica Applicata, Vol. 26, 1996, nr 4 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
16 sty 2019
8 maj 2018
58
83
https://dlibra.kdm.wcss.pl/publication/45656
| Edition name | Date |
|---|---|
| Nonlinear optical susceptibilities of new tetrathiofulvalene derivative molecules | 16 sty 2019 |
Sahraoui, Bouchta Rivoire, G. Sylla, M. Nguyen, Phu Zaremba, J. Nguyen, T. T. Salle, M. Wilk, Ireneusz. Redakcja Gaj, Miron. Redakcja
Sahraoui, Bouchta Derkowska, Beata Kryza, Andrzej Kityk, Ivan V. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Gruhn, Wojciech Kityk, Ivan V. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Rivoire, G. Wilk, Ireneusz. Redakcja Gaj, Miron. Redakcja
Goldys, E.M. Drozdowicz-Tomsia, K. Zhu, G. Yu, H. Jinjun, S. Motlan, M. Godlewski, M. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Stefaniak, Tadeusz Gaj, Miron. Redakcja
Dubik, Bogusława Gaj, Miron. Redakcja