Zhenrong, Zheng ; Jing, Zhou ; Peifu, Gu
Gaj, Miron. Redakcja ; Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Optica Applicata, Vol. 40, 2010, nr 4, s. 811-818
Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
<sygn. PWr A3481II> ; kliknij tutaj, żeby przejść ; kliknij tutaj, żeby przejść
Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 40, 2010 ; Optica Applicata, Vol. 40, 2010, nr 4 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
31 sty 2019
31 sty 2019
142
https://dlibra.kdm.wcss.pl/publication/98402
Nazwa wydania | Data |
---|---|
Roughness characterization of well-polished surfaces by measurements of light scattering distribution | 31 sty 2019 |
Zhang, Hanlu Wu, Zhensen Cao, Yunhua Zhang, Geng Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Riviere, Nicolas Ceolato, Romain Hespel, Laurent Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Łukianowicz, Czesław Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Jaglarz, Janusz Wyszyński, Dominik Lach, Michał Mikuła, Janusz Duraj, Ryszard Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Otremba, Zbigniew Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Yun-Hua, Cao Zhe, Wang Lu, Bai Zhensen, Wu Hai-Ying, Li Yan-Hui, Li Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Łukianowicz, Czesław Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Wang, Dake Chasteen, Emily Onyeuku, Chisom Urbańczyk, Wacław. Redakcja