Luo, Ningning ; Gao, Yiqing ; Zhimin, Zhang ; Mengchao, Xiao ; Huaming, Wu
Optica Applicata, Vol. 42, 2012, Nr 4, s. 845-852
Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
<sygn. PWr A3481II> ; click here to follow the link ; click here to follow the link
Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 42, 2012 ; Optica Applicata, Vol. 42, 2012, Nr 4 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
Jan 15, 2019
Dec 5, 2018
156
178
https://dlibra.kdm.wcss.pl/publication/92406
| Edition name | Date |
|---|---|
| Three-dimensional microstructures of photoresist formed by gradual gray-scale lithography approach | Jan 15, 2019 |
Zhang, Zhimin Gao, Yiqing Luo, Ningning Zhong, Kejun Liu, Zhihuai Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Luo, Ningning Gao, Yiqing Chen, Min Yu, Lixia Ye, Qing Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Yu, Chaoqun Chen, Fuchang Zeng, Jun Huang, Cheng He, Zhimin Lin, Huichuan Zhang, Yongtao Chen, Ziyang Pu, Jixiong Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Romanowski, Andrzej Gaj, Miron. Redakcja
Dobierzewska-Mozrzymas, Ewa Gaj, Miron. Redakcja
Marcinów, Tadeusz Wesołowska, Cecylia Wiktorczyk, Tadeusz Gaj, Miron. Redakcja
Rattan, R. Gupta, A. K. Singh, K. Gaj, Miron. Redakcja
Kaczmarek, Franciszek Mietlarek, Andrzej Gaj, Miron. Redakcja