Oleszkiewicz, Waldemar ; Romiszowski, Piotr
Gaj, Miron. Redakcja ; Wilk, Ireneusz. Redakcja
Optica Applicata, Vol. 35, 2005, nr 3, s. 495-501
Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
<sygn. PWr A3481II> ; kliknij tutaj, żeby przejść ; kliknij tutaj, żeby przejść
Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 35, 2005 ; Optica Applicata, Vol. 35, 2005, nr 3 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
19 wrz 2019
19 wrz 2019
93
https://dlibra.kdm.wcss.pl/publication/140939
| Nazwa wydania | Data |
|---|---|
| Computer simulation studies of roughness of thin films formed in the ion beam assisted deposition (IBAD) process | 19 wrz 2019 |
Oleszkiewicz, Waldemar Romiszowski, Piotr Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Kosobutskyy, Petro Kovalchuk, Andrii Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Gan, K.B. Zahedi, E. Mohd Ali, M.A. Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Wang, Nailing Xu, Xinyang Jiang, Yanxin Yuan, Zhitao Lu, Jiwei Li, Lixia Meng, Qingyou
Kazlauskas, Karolis Jursenas, Saulius Miasojedovas, Saulius Pobedinskas, Paulius Tamulaitis, Gintautas Zukauskas, Arturas Ivanov, Vitalii Yu. Godlewski, Marek Skierbiszewski, Czesław Siekacz, Marcin Leszczyński, Michał Franssen, Gijs Perlin, Piotr Suski, Tadeusz Grzegory, Izabella Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Mroczka, Janusz Szczepanowski, Remigiusz Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Łukianowicz, Czesław Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Tien, Chuen-Lin Lin, Tsai-Wei Su, Shu-Hui Urbańczyk, Wacław. Redakcja