Oleszkiewicz, Waldemar ; Romiszowski, Piotr
Gaj, Miron. Redakcja ; Wilk, Ireneusz. Redakcja
Optica Applicata, Vol. 32, 2002, nr 3, s. 259-265
Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
<sygn. PWr A3481II> ; click here to follow the link ; click here to follow the link
Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 32, 2002 ; Optica Applicata, Vol. 32, 2002, nr 3 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
Jan 16, 2019
Apr 4, 2018
87
102
https://dlibra.kdm.wcss.pl/publication/44810
| Edition name | Date |
|---|---|
| Growth of the optical layers in a stochastic simulation. Study of a film morphology | Jan 16, 2019 |
Oleszkiewicz, Waldemar Romiszowski, Piotr Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Kijaszek, Wojciech Oleszkiewicz, Waldemar Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Oleszkiewicz, Waldemar Markowski, Janusz Srnanek, Rudolf Kijaszek, Wojciech Gryglewicz, Jacek Kovac, Jaroslav Tłaczała, Marek Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Romanowski, Andrzej Gaj, Miron. Redakcja
Dobierzewska-Mozrzymas, Ewa Gaj, Miron. Redakcja
Marcinów, Tadeusz Wesołowska, Cecylia Wiktorczyk, Tadeusz Gaj, Miron. Redakcja
Rattan, R. Gupta, A. K. Singh, K. Gaj, Miron. Redakcja
Kaczmarek, Franciszek Mietlarek, Andrzej Gaj, Miron. Redakcja