Qin, Cui ; Shen, Weikang ; Zhao, Jing ; Yu, Huilong ; Xu, Enming
Optica Applicata, Vol. 45, 2015, nr 2, s. 163-172
Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
doi:10.5277/oa150203 ; oai:dbc.wroc.pl:37640
<sygn. PWr A3481II> ; kliknij tutaj, żeby przejść ; kliknij tutaj, żeby przejść
Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 45, 2015, nr 2 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
27 sie 2025
16 paź 2017
100
121
https://dlibra.kdm.wcss.pl/publication/41657
| Nazwa wydania | Data |
|---|---|
| Polarization dependence of patterning effects in quantum well semiconductor optical amplifier-based wavelength conversion | 27 sie 2025 |
Qin, Cui Jiang, Yu Zhen, Li Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Ab-Rahman, Mohammad Syuhaimi Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Lu, Youxi Wang, Fei Gu, Jun Shi, Lun Peng, Mengmeng Huang, Jingxin Kang, Wen Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Kravtsov, Yury A. Bieg, Bohdan Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Patra, Ardhendu S. Khare, Alika Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Zeng, Xiangwei Li, Yahong Chen, Xueye Zheng, Hongxia Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Fitio, Volodymyr M. Bobitski, Yaroslav V. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Xu, Xiaobin Zhang, Zhihao An, Minghua Teng, Fei Zhang, Zuchen Urbańczyk, Wacław. Redakcja