Qin, Cui ; Shen, Weikang ; Zhao, Jing ; Yu, Huilong ; Xu, Enming
Optica Applicata, Vol. 45, 2015, nr 2, s. 163-172
Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
<sygn. PWr A3481II> ; click here to follow the link ; click here to follow the link
Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 45, 2015, nr 2 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
Aug 27, 2025
Oct 16, 2017
101
122
https://dlibra.kdm.wcss.pl/publication/41657
| Edition name | Date |
|---|---|
| Polarization dependence of patterning effects in quantum well semiconductor optical amplifier-based wavelength conversion | Aug 27, 2025 |
Qin, Cui Jiang, Yu Zhen, Li Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Ab-Rahman, Mohammad Syuhaimi Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Lu, Youxi Wang, Fei Gu, Jun Shi, Lun Peng, Mengmeng Huang, Jingxin Kang, Wen Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Kravtsov, Yury A. Bieg, Bohdan Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Patra, Ardhendu S. Khare, Alika Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Zeng, Xiangwei Li, Yahong Chen, Xueye Zheng, Hongxia Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Fitio, Volodymyr M. Bobitski, Yaroslav V. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Xu, Xiaobin Zhang, Zhihao An, Minghua Teng, Fei Zhang, Zuchen Urbańczyk, Wacław. Redakcja