Zubel, Irena ; Rola, Krzysztof
Gaj, Miron. Redakcja ; Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Optica Applicata, Vol. 41, 2011, Nr 2, s. 417-422
Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
<sygn. PWr A3481II> ; kliknij tutaj, żeby przejść ; kliknij tutaj, żeby przejść
Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 41, 2011 ; Optica Applicata, Vol. 41, 2011, Nr 2 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
16 sty 2019
13 gru 2018
207
233
https://dlibra.kdm.wcss.pl/publication/95514
| Nazwa wydania | Data |
|---|---|
| Micromirrors inclined at 45° towards Si substrates fabricated by anisotropic etching | 16 sty 2019 |
Zubel, Irena Kramkowska, Małgorzata Ninierza, Tomasz Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Goldys, E.M. Drozdowicz-Tomsia, K. Zhu, G. Yu, H. Jinjun, S. Motlan, M. Godlewski, M. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Stefaniak, Tadeusz Gaj, Miron. Redakcja
Dubik, Bogusława Gaj, Miron. Redakcja
Stadnik, Bohumil Gaj, Miron. Redakcja
Borkowska, Alina Wołczak, Bohdan Gaj, Miron. Redakcja