Oleszkiewicz, Waldemar ; Romiszowski, Piotr
Gaj, Miron. Redakcja ; Wilk, Ireneusz. Redakcja
Optica Applicata, Vol. 32, 2002, nr 3, s. 259-265
Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
<sygn. PWr A3481II> ; kliknij tutaj, żeby przejść ; kliknij tutaj, żeby przejść
Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 32, 2002 ; Optica Applicata, Vol. 32, 2002, nr 3 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
16 sty 2019
4 kwi 2018
55
50
https://dlibra.kdm.wcss.pl/publication/44810
Nazwa wydania | Data |
---|---|
Growth of the optical layers in a stochastic simulation. Study of a film morphology | 16 sty 2019 |
Oleszkiewicz, Waldemar Romiszowski, Piotr Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Kijaszek, Wojciech Oleszkiewicz, Waldemar Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Oleszkiewicz, Waldemar Markowski, Janusz Srnanek, Rudolf Kijaszek, Wojciech Gryglewicz, Jacek Kovac, Jaroslav Tłaczała, Marek Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Wojewoda, Henryk Gaj, Kazimierz. Redakcja
Wojewoda, Henryk Gaj, Kazimierz. Redakcja
Litwin, D. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Kaps, Ch. Schubert, R. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Antropova, Tatiana V. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja