Obiekt
Tytuł: Plasma dry etching of monocrystalline silicon for the microsystem technology
Autor:
Współtwórca:
Gaj, Miron. Redakcja ; Wilk, Ireneusz. Redakcja
Opis:
Optica Applicata, Vol. 32, 2002, nr 3, s. 339-346
Wydawca:
Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
Miejsce wydania:
Data wydania:
Typ zasobu:
Identyfikator zasobu:
Źródło:
<sygn. PWr A3481II> ; kliknij tutaj, żeby przejść ; kliknij tutaj, żeby przejść
Język:
Powiązania:
Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 32, 2002 ; Optica Applicata, Vol. 32, 2002, nr 3 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Prawa:
Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Prawa dostępu:
Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
Lokalizacja oryginału:
Kolekcje, do których przypisany jest obiekt:
- Dolnośląska Biblioteka Cyfrowa > Uczestnicy Konsorcjum > 01. Politechnika Wrocławska > Czasopisma > Wydane w PWr > Optica Applicata
- Dolnośląska Biblioteka Cyfrowa > Zasoby > 2. Czasopisma > Czasopisma współczesne
- Dolnośląska Biblioteka Cyfrowa > Dziedziny nauki > 6. Nauki ścisłe i przyrodnicze
Data ostatniej modyfikacji:
16 sty 2019
Data dodania obiektu:
4 kwi 2018
Liczba wyświetleń treści obiektu:
57
Liczba wyświetleń treści obiektu w formacie PDF
57
Wszystkie dostępne wersje tego obiektu:
https://dlibra.kdm.wcss.pl/publication/44820
Wyświetl opis w formacie RDF:
Wyświetl opis w formacie OAI-PMH:
| Nazwa wydania | Data |
|---|---|
| Plasma dry etching of monocrystalline silicon for the microsystem technology | 16 sty 2019 |
Podobne
Górecka-Drzazga, Anna Gaj, Miron. Redakcja
Grzebyk, Tomasz Stasiak, Paweł Górecka-Drzazga, Anna Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Wojewoda, Henryk Gaj, Kazimierz. Redakcja
Wojewoda, Henryk Gaj, Kazimierz. Redakcja
Litwin, D. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Kaps, Ch. Schubert, R. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Antropova, Tatiana V. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
