Mazurek, Piotr ; Daniluk, Andrzej ; Paprocki, Krzysztof
Gaj, Miron. Redakcja ; Wilk, Ireneusz. Redakcja
Optica Applicata, Vol. 32, 2002, nr 3, s. 389-395
Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
<sygn. PWr A3481II> ; kliknij tutaj, żeby przejść ; kliknij tutaj, żeby przejść
Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 32, 2002 ; Optica Applicata, Vol. 32, 2002, nr 3 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
16 sty 2019
4 kwi 2018
99
125
https://dlibra.kdm.wcss.pl/publication/44848
| Nazwa wydania | Data |
|---|---|
| Forming the high quality CoSi2 by solid phase epitaxy | 16 sty 2019 |
Mazurek, Piotr Jałochowski, Mieczysław Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Romanowski, Andrzej Gaj, Miron. Redakcja
Dobierzewska-Mozrzymas, Ewa Gaj, Miron. Redakcja
Marcinów, Tadeusz Wesołowska, Cecylia Wiktorczyk, Tadeusz Gaj, Miron. Redakcja
Rattan, R. Gupta, A. K. Singh, K. Gaj, Miron. Redakcja
Kaczmarek, Franciszek Mietlarek, Andrzej Gaj, Miron. Redakcja
Bissinger, Janusz Raczyński, Krzysztof Gaj, Miron. Redakcja
Pawlikowski, Janusz Marek Majchrowska, Ewa Kochan, Bogdan Gaj, Miron. Redakcja